相变存储器采用18nm FDSOI

2021年12月15日//彼得•克拉克
三星和ST报告了18nm FDSOI的相变存储器
意法半导体和三星已经开发了一种18nm FDSOI技术的嵌入式相变存储器逻辑平台。

意法半导体一直是嵌入式微控制器中相变存储器(PCM)的主要倡导者,特别是在汽车应用中。该公司至少从2017年就开始支持这项技术,并于2018年在其28nm全耗竭绝缘体上硅(FDSOI)制造工艺上对微控制器进行了采样

在40nm节点之前,非易失性存储器的选择是闪存,但这在扩展到40nm以下时存在问题,部分原因是需要高电压,以及电荷泵实现高电压所占用的模具区域。

现在ST和Samsung建议迁移到18nm FDSOI的前沿微控制器应用程序,包括始终开启类型应用程序。

三星铸造厂提供28nm和18nm fdsoi。28nm FDSOI具有嵌入式MRAM的选项,而18NM FDSOI没有嵌入式内存提供。它可能是三星已经为ST制造了28nm FDSOI-PCM,也将在客户专有的基础上为ST制造18nm FDSOI-PCM。

但也有可能,三星将开始提供18nm fdsoi - pcm在未来更广泛的用户。作者将该平台描述为满足下一代微处理器的性能目标。

www.stmicroelectronics.com.www.samsung.com

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